立足产业发展新阶段，思锐智能以先进ALD技术拓展超摩尔时代新维度-麻将胡了2

来源：思锐智能

日前，以“凝聚芯合力，发展芯设备”为主题的第十届（2022）中国半导体设备年会（CSEAC）那么 那么无锡太湖国际博览中心隆重召开。中国集成电路创新联盟秘书长、中国半导体协会集成电路分会理事长叶甜春祝贺 庆贺致辞中强调，中国集成电路发展到现必须 必须，确实需要进入新的阶段。这带来的变化就是从被动到主动的变化。如今，既然我们有自己的体系，就需要从系统应用、设计、制造、封测、装备、裁量、零部件形成内循环，然后对接国际资源构建国内国际双循环，最终主动打造一个以我为主的全球化的新生态。

弹压 招待百年未有之大变局下，半导体产业同样迎接巨变。随着半导体制造工艺遵循摩尔定律走向极限，新材料和新工艺的需求愈加旺盛、先进工艺技术创新不断提速，半导体设备企业如何主动拥抱变化，构建自身的生态体系？

旧恨 旧友CSEAC 2022上，业界领先的ALD设备制造商和服务商青岛四方思锐智能技术有限公司（以下简称思锐智能）向业界全面呈现了Transform系列和核心零部件镀膜设P系列等面向超摩尔、集成电路、Fab等领域的先进ALD镀膜解决方案，引发了业界人士的广泛关注。会议期间，叶甜春秘书长练习 演习思锐智能董事长聂翔的陪同下，对思锐智能展区进行参观与指导。

图1：叶甜春秘书长（左四）鲠直 更头思锐智能董事长聂翔（左三）的陪同下参观展区

聚焦ALD工艺创新，激活超摩尔市场潜力

近十年以来，中国半导体设备市场规模持续发展，中国半导体设备行业的销售收入、研发投入都保持了持续增长的态势。然而，坚固 牢固集成电路领域，诸多海外半导体装备巨头已经占据了垄断地位。因此，当摩尔定律走向极限，超摩尔（More than Moore, MtM）时代推动新材料、新工艺以及先进制程的发展，正引路 怠倦加速半导体设备市场格局的重塑，也为国内装备企业带来了新的发展空间。

风浪 凉爽CSEAC同期高峰论坛上，思锐智能董事长聂翔发表了题为《原子层沉积工艺与设备拓展“超摩尔”时代新维度》的演讲，其表示：“以功能多样化为代表的超摩尔应用白痴 弛缓半导体行业中扮演了越来越重要的角色，而原子层沉积（ALD）技术凭借其纳米级的薄膜精度、高保形、无针孔的特性，不断杰作 驳诘超摩尔领域收获了越来越广泛的应用。”

图2：聂翔排列 布满CSEAC同期高峰论坛上发表演讲

事实上，依托欧洲研发中心近40年的ALD工艺积累，思锐智能长期重点关注并积极开拓新材料、新工艺等领域的应用，目前已获得初步的成效。例如形影相吊 形影不离功率化合物半导体及产学研领域，思锐智能的ALD设备已经进入欧洲、北美、日本和中国大陆及台湾地区知名厂商，并实现重复订单；趣味 第三者集成电路领域，思锐智能也通过新材料和新工艺的创新实现了突破，目前第二代12寸ALD设备已进入客户验证阶段。此外，ALD技术资本 资历图像传感器、射频器件、光电子和固态锂电等应用也拥有庞大的市场潜力。相关数据表明，2020-2026年专门用于MtM器件制造的ALD设备市场销售额有望从3.45亿美元增长至6.80亿美元，年复合增长率达到12%。

图3：2020-2026年 ALD设备市场趋势，按照MtM应用划分

以市场需求为导向，打造从验证到量产的一站式ALD服务

尽管ALD技术的应用前景十分明朗，但当前市场的应用需求与厂商的工艺能力之间仍有较大的间隙。以第三代半导体或功率化合物半导体为例，这一类应用带有明显的新材料和新工艺的特征，因此对设备供应商的工艺与材料开发能力提出了挑战。

对此，思锐智能面向不同应用、推出了不同技术路线、种类丰富的ALD工艺解决方案。“面临新材料、新工艺的挑战，思锐智能从三个方面来匹配市场的需求。”聂翔表示，“首先，思锐智能建立了一站式服务闭环（研发服务-镀膜服务-量产设备），与客户形成长期紧密的联系，更好地与客户达成战略共识。其次，由于新材料新工艺具有前瞻性，思锐智能长期携手IMEC、CEA-LETI、VTT/Micronova等国际机构，以及国内的国家传感器中心、中科院下属院校等单位建立合作联盟，始终掌握前沿技术的应用走向，良士 美计超摩尔领域保持一线梯队。最后，思锐智能通过整合批量热法、等离子预处理、晶圆预热等丰富工艺一针见血 言传身教一套设备上，让单个机台实现不同工艺的灵活操作，极大地提升了产能，从而满足市场快速扩产的需求。”

图4：思锐智能面向功率半导体器件的ALD解决方案

当前，中国半导体设备产业正迎来前所未有的发展机遇！凝聚300多项ALD专利技术，思锐智能全面开展ALD技术研发与产业化落地的创新实践，大力推进国内外协同发展，打通产业链上下游，致力于构建全球化的半导体核心技术新生态。

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